日期:2012-12-04 10:08
oSO4两种主盐中,钴盐起着决定性作用[6]。钨不可能单独沉积,相对于钨而言,钴的标准电位较正,而且又发生诱导沉积作用,因此,在电解液中只有加入钴盐时才能获得W Co合金层。
分别取钴离子浓度为0.1、0.2、0.3mol L,在不同电流密度下沉积层中钨的质量分数,如图1所示。
从图1可看出,钴盐含量过高,镀层中钨含量就会很高;钴盐含量过低时,镀层中钨含量就会降低。电流密度也对合金镀层中钨含量有着很大的影响,随着电流密度的增大,镀层中钨含量先增加后减少的,当电流密度在5A dm2时,镀层中钨含量达到最大值,此时,电流密度再增加,镀层中钨