电沉积钨合金镀层的研究现状与应用进展
日期:2012-12-14 09:20
好的非晶态Ni-W-P镀层[38]。因此,对于不同的钨合金体系,镀层由晶态转变为非晶态的电沉积温度不同,以及最容易沉积得到非晶态镀层的温度也不相同。
3.1.3pH值的影响
镀液pH值是影响镀层性能的另一个重要参数,对于不同镀层性能的影响也较为复杂。对于Ni-W镀层来说,中国工程物理研究院激光聚变研究中心[37]通过实验得出,pH值过高(pH9),镀层变脆且易起泡;pH值太低(pH5),镀层灰暗;pH值太高或太低,镀层都为晶态结构,含W量较低,耐蚀性差,pH值在6.5~7.5范围内易得到含W量高的非晶态Ni-W合金镀层,耐蚀性较好。贾淑果等人[38]研究发现
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