日期:2013-01-04 10:37
苯磺酸，丙炔基磺酸都含有吸电子基因(吸电子基因为羟基，苯基，丙炔基)，同样会降低有机磺酸铬酰的稳定性，所以也是较差的催化剂。硒酸H2SeO4与H2SO4性质相似，催化能力相近，都可得到光亮的Cr-Se合金，但镀层内应力大仅适用于微裂纹铬。
2.替代F-的添加剂卤化物及卤酸盐
HF，H2SiF6，HBF4，H3AIF6，H2TiF6等是第3代复合镀铬添加剂，优点是电流效率较高，覆盖能力较好，缺点是单独使用镀层粗糙发暗黑，对阳极对镀件都有腐蚀，镀液容易积累杂质金属离子而使性能恶化，所以人们致力于寻找替代F-的添加剂。
卤族元素化合物是首先考虑的，可