日期:2013-01-06 10:35
流密度(11A/dm2)下电镀，这些工艺获得的NiFe合金具有低矫顽磁力(250e)、高导磁性、极快的响应和允许极短的开关时间(几纳秒)，该镀层还具有零磁致伸缩，应用于计算机的快速记忆储存元件和其他电子设备中，如磁头[37]。Romankiw和Thompson[38]着重研究了合金中第三元素的重要性，例如，P、S和其他元素能够提高镀层的热处理稳定性，并优化其磁性。
表13-3 电镀软磁层(80%Ni-20%Fe)的典型镀液
DuRose和Pine最先描述了质量良好的装饰性NiFe合金电镀工艺，镀液中加入有机磺酸盐可以控制镀层应力，在低pH值下进行电镀可以避免碱性物质掺