日期:2013-01-09 10:15
新镀膜技术显示在图5中。PVD工艺技术是被 凡阿那研究所和夫琅和费金属与电子技术协会通过紧密合作来研发和实现的。
在真空区段，实现了两种不 同的PVD工艺：
1、来自完全密封的辐射加热石黑坩埚的用于低熔点材料如锌或镁等的调整蒸发的JET-PVD镀膜。
2、用两个100KW电子枪从水冷铜坩埚中调整蒸发高熔点材料如铁、镍和钛以及金属化合物、无机化合物(如二氧化硅)等的EB-PVD镀 膜。
运行的首次结果从已经得到广泛试验的JET-PVD和等离子清洗工艺获得。在本文的余下部分将相当详细在 描述这些结果，包括实际工艺试验程序的首次结果。
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