日期:2013-01-09 10:15
放电或者离子刻蚀工艺的具有典型的低电流密度的等离子体清洗是不够的。为了增强等离子体清洗效 果，使用磁控放电原理的溅射刻蚀源和电弧增强辉光放电源已经研制成功并在这条试验型生产线上实现了。
反转磁控溅射刻蚀
在一般的磁控放电设备中，接地钢带作为阴极(图6a)。在带材将要镀膜的一面布置一个空心阳极，在基底背面布置一个磁场系统。这种设备在带材表面产生强度 约为25mT的磁场。磁控放电直接在金属化基底表面点火。利用氩离子冲击获得的刻蚀率可以和从磁控源获得的溅射率相比。为了确保稳定的运行，和用于磁控技 术中相似的中