钢带镀膜技术
日期:2013-01-09 10:15
后面的电弧等离子体的电子。这些电子在基底附近产生一个强且宽的氩等离子体。等离子体的密度可以轻易地利用蒸发器的 电流和附加电极来控制。在操作中,与在反转磁控溅射情况下相同的直流或中频电源可以用于提供空心阳极的偏压。在初步的试验中,已经发现对于钢带的刻蚀率在 12nm/s的级别内,并且仅使用了溅射刻蚀模块所需偏压电源的一半。
得用反转磁控溅射刻蚀模块进行的实验工作的首次结果如图7所示。薄的铁膜层利用 EB-PVD沉积在热浸镀锌钢板上。接下来,应用一次加热后处理促使铁锌之间的如前面章节所述的相互扩散和合金形成。如果
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