日期:2013-01-09 10:25
不需起弧气 体，而且往往几个棒可布置得垂直于运行工件，大面积镀膜就可以实现。当束流达几百安培时，镀不锈钢的速度可达0.5微米/秒，离子流密度可达150毫安/ 平方厘米。
3、空心阴极激活沉积(Hollow cathode Activiated Deposition，HAD)：该空心阴极往往平行于工件。这一方法特别适合反应镀膜，如氧化硅和氧化铝。通常每个空心阴极束流达200安培。三氧化二 铝的沉积速度可达50~120纳米/秒。束流密度达30~50毫安/平方厘米。
实际上金属薄板带钢大面积高速电子束镀膜的最大难点还在前处理离子源。主要是宽度和工件运行速度。传统清洗