日期:2013-01-10 09:54
这样的溶液可以在室温下保存20h，使用前过滤，然后加入次磷酸钠溶液，搅拌，加至最终的体积。每消耗3g左右的NaH2PO2H20将产生1g化学镀钯层[13]。Sergienk0开发出了一种含乙二胺、乙二胺四乙酸和次磷酸盐的稳定化学镀钯槽。
其他还原剂槽
Stremsdoerfer等人[15]提出了一种在n-GaAs裸表面上化学镀钯和金一钯合金的新型镀槽。该镀槽用盐酸羟胺作还原剂，镀液中金属含量较低，在20℃的酸性介质中具有较高的沉积速度(0.5m/h)。镀槽由以下两种溶液组成，溶液A中的HF和溶液B中的KC1分别起稳定剂的作用，少量A溶液加到40ml B溶液中，配制成裸露