日期:2013-01-10 09:58
化，然后浸入氯化钯溶液中，也可以快速沉积化学镀钯层[24]。Schesinger及其同事[25]详细研究了紫外线辐射对Pd-Sn活化后的基体上化学镀钯沉积速度的影响，同时还研究了激光辐射对镍基体上化学镀钯沉积速度的影响[26]。
化学镀铂
技术和专利文献[27～30]中对化学镀铂作过描述，Rhoda报道了肼作还原剂的碱性4价钯络合物化学镀钯工艺：
Na2Pt(OH)6 10g/L
NaOH 5g/L
C2H8N2(乙二胺) 10g/L
N2H4H20 1g/L
温度 35℃
沉积速度 l2.7m/h
该工艺中肼以水溶液或肼盐溶于水后连续添加，或分批加入槽中，以激发铂的沉积。提出了用Pt(N02)2(NH3)