日期:2013-01-10 10:31
薄层磁头(TFHs)已经得到了广泛应用，它们能够减小记录槽的间隙，从而具有较高的表面记录密度。电沉积的玻莫合金(Ni80Fe20)层仅用于TFH磁心，软磁层具有较高的饱和磁通密度(Bs)和高电阻率(p)，以及高分辨力，从而具有极高的记录密度。已经推出了生产软磁层的各种工艺，如溅射和电沉积，现在化学沉积已经广泛应用于磁层的生产中，如上所述，化学镀工艺具有在非导电体表面精确选择性沉积膜层的优点。可以在两种电化学方法(化学沉积和电沉积)中选择一种，生产具有高Bs和p的TFH磁心软磁层。
表193列出了化学镀CoB、CoFeB和NiFeB软磁层的典型槽