日期:2013-01-10 10:31
液组成和操作条件，以前开发的化学镀C096 Ba4层具有1.4T的高Bs和较低饱和磁致伸缩(s)，它的导磁率()可以在沉积后经热处理得到提高[100,101]。为了进一步提高CoB膜层的Bs，尝试了Fe的共沉积，获得的CoFeB膜层(Co89Fe9B2)具有1.6T[l02,103]的高Bs。图195的CoFeB膜层的典型TEM明视场图和THEED图，从图l95中可以看出，膜层由直径约10nm的fcc-C0粒子组成。
表19-3 化学镀CoB、CoFeB和NiFeB软磁层的典型槽液组成和操作条件
图195化学镀CoFeB膜层的典型TEM明视场图和THEED图
尝试了以化学镀NiB体系为基础的化学镀工艺[l01]生