日期:2013-01-14 10:11
快失去能量，且迁移率很小，故原子在表面上重新排列较困难，即沉积的地方就是定位的地方成原子之间的空隙较大，有面粗糙度很大;溅射的基片温度较高，Al原子能量也较高，在而基片表面的原子迁移率增大，使得薄膜表面横向动能较大，易于连结殂成光滑的表面，稳定性较高，晶粒较大，原子间距较小，因而形成的薄膜表面粗糙芳减小。
通过环境扫描电子显微镜philips XL30-ESEM观测，并分析两种Al膜的晶粒大小及表面形貌的SEM照片也能验证这一结论，电子束蒸发的平均粒径为266.8nm，溅射的平均粒径为1.528m，虽然电子束蒸发Al膜的粒径明显小于溅