电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究
日期:2013-01-14 10:11
率间接地换算得到。
金属膜的特性一般用折射率NM=n-ik来表征,设金属膜厚度为dM,折射率为NM=n-ik,位相厚度为M=2NM dM/,若考虑垂直入射,金属膜与Si基底的组合导纳为
YM=((ngcos(M)+iNMsin(M))/( cos(M)+i sin(M) ng/ NM)= YM(1)+ iYM(2) (5)
从而整个结构的反射率为
RM=|(n0- YM)/(n0+YM)|2={[(n0- YM(1))]2+[ YM(1)]2}/{[(n0+ YM(1))]2+[ YM(1)]2} (6)
但其描述和计算过程过于复杂,故可以有下面的描述和计算代替。
当光束垂直入射到单层薄膜有面时,反射率
RM=(n0 n2-NM2)/(n0 n2+NM2)   (7)
则NM={[(1-RM)/(1+ RM)] n0 n2
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