电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究
日期:2013-01-14 10:11
油扩散泵返油而产生污染真空室的现象;用离子规来测量真空度。坩埚选用石墨坩埚,避免了坩埚与Al反应生成化合物而污染Al膜,坩埚的位置处在行星架的球心位置,从而保证成膜厚度的均匀性。蒸镀过程中膜厚的测量选用石英晶体膜厚监控仪。电子束蒸发镀Al的典型工艺参数为:真空度:2.6 10-4Pa;蒸发速率:2025 A/s;基片温度:120C;蒸距:45cm;蒸发时间:25min;电子枪电压:9Kv;电子枪电流:0.2A。
1.2溅射设备及优化工艺参数
选用ILC-1012MARK Ⅱ 1012溅射装置;操作简单,并能保证产品质量的均一性。此溅射台主要由片盒卸室SL,片盒交换室T
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