电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究
日期:2013-01-14 10:11
溅射两种方法制备Al膜的特点。
2.1膜厚
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的,因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能,从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说,它的工作电压高,电流大,没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高,易烧毁。对于一般的半导体器件,Al层偏薄,则膜的连续性较差,呈岛状或网状结构,引起压焊引线困难,造成不易压焊或压焊不牢,从而影响成品率;Al层过厚,引起光刻时图形看不清,造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和连条现象。
采用电子束蒸发,行星机构在沉积薄膜时均匀转动,各
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