电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究
日期:2013-01-14 10:11
2.50.3m。
为了更进一步地观测膜厚及表面形貌,样品放入环境扫描电子显微镜philipsXL30-ESEM中进行观测,并根据视频打印机输出的SEM图片可以看出,电子束蒸发的膜厚分散度较大,即均匀性较差。
2.2附着力
附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力,也是保证器件经久耐用的重要因素。溅射原子能量比蒸发原子能量高12个数量级。高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多,产生较高的热能,部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象,在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层,而且,在成膜过程中基片
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