日期:2013-01-14 10:11
始终在等离子区中被清洗和激活，清除了附着力不强的溅射原子，净化且激活基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。
测定附着力所采用的方法是测量Al膜从基片上剥离时所需要的力或者能量，我们采用剥离水法来测定附着力。
设薄膜单位面积的附着能为，则宽度为b,长度为a的薄膜的总附着能
E=ab (1)
用于剥离该薄膜的力F所作的功
Wp=Fa(1-sin()) (2)
如果是静态剥离并忽略薄膜弯曲时所产生的弹性能，则F所作的功近似等于薄膜的总附着能，即Wp=E,于是
F=b/(1-sin()) (3)
(3)式中F随着角的变化而变化，