氟硅酸根离子在镀铬电解液中的作用
日期:2013-01-17 09:47
2.5A/dO)下获得光亮的铬层。当温度达45℃时,可获得光亮铬层的电流效率为19~21%,而在标准镀铬液中则为13%。
含有氟硅酸根离子的电解液,随着温度上升,其工作范围比含有硫酸根离子的电解液为宽。
氟硅酸根离子的主要缺点是对工件、镀槽、阳极的腐蚀性大,槽液维护要求高。当镀液含有3克/升以上的铁离子时,就会严重影响铬层的光泽与镀液的分散能力,降低工作范围及电流效率。因此若以氟硅酸根离子完全代替硫酸根离子的镀铬电解液,由于上述的缺陷,不能长期很好地生产。而采用氟硅酸根和硫酸根离子配合的镀铬电解液,应用较广。
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