PCB高稳定性中速化学镀铜工艺研究
日期:2013-01-25 09:30
0%预浸液,1 min 活化:40℃,含4010-6Pd胶体钯溶液,5 min
速化:室温,10%速化液,2 min 化学镀铜:40℃,30 min
2.3化学镀铜液基本组成
基础组分:CuSO4.5H2010g/L,EDTA40g/L,NaOH10 g/L,甲醛(37%)10 ml/L,2,2-联吡啶20 mg/L,亚铁氰化钾60 mg/L,用去离子水配制成溶液。
2.4添加剂对化学镀铜的影响
向化学镀铜基础溶液中添加不同种类的微量添加剂,并与未加添加剂的化学镀铜液作参照,分别测定镀速及镀液稳定性变化,初步筛选出既能提高沉积速率又能稳定镀液的添加剂;设计正交试验,确定满足中速化学镀铜的最佳微量添加剂组
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