日期:2013-02-21 09:05
PS、强抑制剂、PEG、聚集剂等通过稀释后的储备溶液分别加入到镀槽中，这些添加剂的储备溶液是采用适当浓度而制备的。填孔性能是采用微导通孔和TH孔的横截(剖切)面并通过光学显微镜来测评的。
结果与讨论大家知道，Cl-离子对铜表面的吸附是依赖电位的。另外，这种Cl-离子的依赖电位吸附取决于整体溶液的浓度，当Cl-离子浓度低于2010-6时，只要整个阴极电位高于特定值，则PDA行为是Cl-离子从铜表面解吸作用为特征的，这是由于负离子电荷和强负电性Cl之间排斥力而引起的结果。一旦Cl-离子浓度高于2010-6时，则在铜表面上就容易形成CuCl，接着