导通孔电镀铜填充技术
日期:2013-02-21 09:06
需要日益增长,特别是BGA(Ball Grid Array)基板中的叠层导通孔构造的增长,智能电话或者平板PC基板中的任意层(Any Layer)构造的增长尤为迅速。另外基带(Base Band)CPU等使用的CSP(Chip SizePackage)基板中,由于使用比BGA基板等尺寸小的贯通孔,所以贯通孔填充电镀的采用正在扩大。在这种背景下,随着多功能终端的世界性普及,今后必须解决下面的课题。
(1)表层的薄膜化:适应降低成本和细线化需要。
(2)面均性的提高:适应细线化和多层化需要。
(3)高生产化:降低成本和提高生产效率。
(4)提高可靠性和合格率:减低实发性凹陷比例
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