pH对电沉积氧化亚铜薄膜的影响及光催化性能
日期:2013-02-26 09:01
.0 cm,间距2.0 cm。以0.083 mol/L醋酸铜和0.22 mol/L乳酸的混合溶液为电解液,用4 mol/LNaOH溶液调节电解液的pH。在电解电势为0.9 V、温度为50 ℃的水浴条件下反应2h后,取出导电玻璃,清洗、烘干,即得到均匀的砖红色Cu20薄膜。
2.3 Cu20薄膜的表征
使用D/Max-3B型X射线衍射仪(XRD,日本理学公司)测定Cu20薄膜的物相,衍射源为Cu Ka。使用S4800型场发射扫描电镜(SEM,日本日立公司)观察Cu20薄膜的表面形貌并测定膜厚。采用Cary300型紫外一可见分光光度计(美国VARIAN公司)分析Cu20薄膜的可见光吸收性能。
2.4 Cu20薄膜的光催化性能
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