pH对电沉积氧化亚铜薄膜的影响及光催化性能
日期:2013-02-26 09:01
pH下合成的Cu20薄膜均具有一定择优生长方向,晶体中含有少量Cu0。pH=7时,Cu20的特征峰较弱,无明显的择优取向:DH =9时,(111)面的特征峰减弱,出现(200)面择优取向:随pH继续增大至11、13时,Cu20晶体呈现明显的(111)面特征峰,(200)面特征峰消失,晶体沿(111)面择优生长。电解液的pH越高则越难调节,因此,在制备(111)择优取向的Cu20薄膜时选用pH=11为佳。
采用Scherrer公式计算得到pH=7、9、11、13时,Cu20的晶粒度分别为31、38、28、28 nm,在晶粒无明显择优取向(pH=7)及沿(111)面择优生长时,Cu20的晶粒度相近,沿(200)面取向的薄
8/20 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/23 19:50