日期:2013-04-01 15:05
秒，二氧化硅的蒸发速率为5～20埃/秒。
[2]进一步的，步骤2所述的烤箱内的温度设定为160～200度，烘烤时间为5～30
分钟。
[3]进一步的，步骤3所述的浸泡时间为1～10分钟。
[4]与现有技术相比，本发明的有益效果是：在光学真空镀膜机上，利用二氧化钛、二氧化硅作为镀膜原料在玻璃表面制备银白色不连续膜层，利用薄膜干涉原理，膜层附着力好、抗机械强度好、有利于批量生产。
附图说明
[5]图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
[6]下面结合实施例参照附图进行详细说明，以便对本发明的技术特征及优点进行更深入的诠释。
[7]如图