日期:2013-04-03 10:41
阴极电位(为-0.8V)。如果电位过正则不利于成膜;而电位继续变负，由于氢气生成并溢出破坏表面，使得膜层表面呈现多孔形貌。
除了以上涉及的硅烷处理工艺，近年来，等离子体沉积技术也被引入硅烷处理中。该工艺具有实验参数易于控制、涂层纯度容易获得、不使用溶剂、对环境友好等优点。但是，由于真空系统费用昂贵以及真空反应器必须要封闭，造成其难以在工业上得到推广。
3硅烷处理技术的改性研究
硅烷膜能对铝合金基体起到良好的防腐作用，与基体结合良好，并且可以通过不同的制备工艺来增强和改进其耐蚀性和力学性能。但是，目前的铝合