电沉积纳米合金工艺及特性(下)
日期:2013-04-07 15:00
当前最急需的。c0NiFe合金具有很高的饱和磁化通密度(B。)和低的矫顽力(H。),C0贷Ni。。Fe:,对发展软磁性材料,具有很大的吸引力,该膜的饱和磁通密度为B。=2.1T,矫顽力为H。=1.20e,这种特性对磁记录头来说是非常需要的。最近研究用电沉积法可得到c0NiFe软磁膜,其平均晶粒尺寸接近10nm,晶体结构为面心立方晶系和体心立方晶系(fccbcc)混相组成。
Nakanishi等人用脉冲电沉积法在旋转圆盘电极上制得了c0NiFe纳米晶软磁薄膜,膜厚1斗m。基体采用Cu片,直径loram,厚8斗m。对电极用Pt线,参比电极为A9/igCl。
电解液组成:硫酸钴0.
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