电沉积纳米合金工艺及特性（下）
日期:2013-04-07 15:00
合金薄膜的TEM图像，见图4915，表明在薄膜中的晶粒大小基本相同为10nm。


图4914不同占空比条件下，c0NiFe合金膜的XRD图谱(i。=-20mA／cm2，从Cu基体行上去掉的峰值)


图4915电沉积C0NiFe合金薄膜的TEM图像(占空比--40．5，i。=一10mA／cm2)
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