绝缘体表面电沉积:金属化
日期:2013-04-08 14:23
自动催化沉积(AD)把金属直接放在浸在处理液中的物体上,无需加外电流。金属膜是通过由沉积的金属或合金催化的控制电化学还原沉积得的。溶液中的电化学还原剂提供电子,这个过程只发生在催化剂表面,而不是发生在整个溶液中。自动催化沉积(AD)也被称为化学镀。它有其他技术所没有的几个特点,这个工艺在绝缘体上电镀是一个完整的、必不可少的步骤。例如,金属和印刷电路板电镀。值得注意的是,某些化学镀层,具有某些独特或甚至独一无二的磁特性。自动催化沉积所产生的沉积有镍沉积,钴沉积,钯沉积,铜沉积,金沉积,银沉积和含这些金属再
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