日期:2013-04-08 14:28
LCH20、0．075mol／LEDTA(单一阴极反应中使用过量的EDTA)，用NaOH将pH值调至12．50(溶液中不含CuS04)，温度为24℃(0．5℃)，见图171中i(CH2O)=f(E)，电流-电位曲线从平衡电位Eeq(CH2D)=-1．0V(SCE)开始记录。从图171可以看出，两条极化曲线i(Cu2+)=f(E)与i(CH2O)=f(E)相交，相交处的坐标为：①横坐标，i=1．9x10-3A／cm2；②纵坐标，E=-0．65V(SCE)。根据混合电位原理，电流密度i-1．910qA／em2是铜的化学沉积速度以A／cm2形式的表示，电位E=-0．65V(SCE)是研究体系的化学镀铜混合电位(Emp)。根据法拉第定律，沉积速度的计算公式为
这