化学镀铜:化学镀铜沉积动力学
日期:2013-04-09 15:12
在混合电位Emp下非稳态期产生的稳态化学镀铜沉积称之为诱发期。
1诱发期
诱发期的定义是达到混合电位开始进行稳态金属沉积所需的时间。可以通过一个简单实验进行测定:将金属试片浸入化学镀液,从浸入时记录金属的电位(或从加入还原剂时开始记录),直至达到混合电位为止。图173列出了铜墓体上化学镀铜的典型记录曲线,该体系置于大气中,并在溶液中加入添加剂,诱发期的持续时间相当长[16].


图17303mol/LEDTA、0.05mol/LCuS04、pH值为l2.50、2.5g/L多聚甲醛、铜电极、2.2cm2、25℃、SCE参比电极、氩气保护下的诱发期(FromP
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