日期:2013-04-09 15:12
aunoVic[16]，withpermissionfromtheElectrochemicalSociety)
全过程的诱发期问题可以转化为氧化和还原部分反应的开路电位(OCP)问题，即每个过程的单独诱发期。Paunovic[16]研究发现，Cu／Cu2+体系的OCP可以瞬哼达到，图174的典型曲线表示，还原剂的0CP随时间的变化，通过对比这些0CP值，可以推断出还原剂0CP的建立时间。在化学镀铜沉积中，CH20是建立稳态混合电位中的速度控制部分反应。
图174不同EDTA含量溶液的开路电位：1g／L多聚甲醛，pH值为l2．50，铜电极，SCE参比电极(FromPaunovic[16]，withpermissionfromtheElectrochemi