日期:2013-04-09 15:20
微孔率
Nakahara[35，36]利用透射电子显微镜研究了真空溅射、电沉积、化学沉积制备的晶态和非晶态膜层的结构，发现它们都含有大量微空穴(孔)。膜层中空穴的存在表明其中含有局部未填满的晶格，对膜层早期形成阶段的研究表明，大多数微空穴发生在三维晶粒(TDC，17．5节)的聚结界面，这种空穴形成机理称之为聚结诱导形成空穴。
空穴是影响膜层物理性质的一种重要晶格缺陷，在下面的章节将作介绍，其中一例的单位体积空穴数为l015～1016cm-3，空穴平均尺寸为2．5nm[45]。
4渗氨
根据式(171)，沉积1mol铜随之产生1molH2，从而导致H2气泡渗