日期:2013-04-09 15:22
1延展性
Okinaka和Nakahara[47]认为，小空穴和含H2的小气泡的形成是决定化学镀铜层延展性的主要因素，他们发现，含大量小气泡的膜层与含大气泡的膜层一样易脆。加入CN-和提高沉积速度[式(171)中反应产生的H2容易脱附]可以改善镀层的延展性，某些延展率促进添加剂，如2，2，-联吡啶和K2Ni(CN)4，能够抑制H2的夹杂和空穴的形成[44]。表l71列出了不含延展率促进剂溶液(溶液A)和含NaCN延展率促进剂溶液(溶液B)化学镀铜层的性能差异。从表171看出，镀层的延展率及气泡密度(N／cm3)的差异很大，镀层在室温下保存可以恢复其延展率。在此例子中，