日期:2013-04-10 14:10
善研究过程，提出了一种典型的SnPd活化槽液组成(如表l8-4所示)，表l85列出了一种实验方法，它可以根据需要进行改良。尽管使用单独的SnPd工艺存在某些缺点，但是有时该工艺的初始成核密度比混合胶体技术大一个数量级，因此，膜层厚度很薄时就能获得连续膜层。其优点如下：
①只需提供表面导电性时，所耗金属较少，节约成本；
②紧固点密度较高，具有较好的结合力；
③具有开发需要极薄膜层的特殊产品的潜力。
在结束本节之前需要顺便提到的是，硅上化学镀镍需要一个预敏化步骤，其中包括浸稀HF溶液，在1g／LPdCl2溶液中加入450mL／LHF(