日期:2013-04-10 15:03
品在电镀或表面转化之前对表面清洁度特别敏感。现在还买不到简单、价廉的监测仪表，可以通过实验室分析系统确定要求的清洁度，并定期检查基体的清洁度。
直接分析技术不需要除去基体表面的任何污染物，有时，这类技术可用于工艺过程中，厂内分析从下列内容中选项[25]：
放大后目测
荧光分析
水膜残迹试验
接触角
质量分析
光激发外逸电子发射(OSEE)
X射线光电子能谱(XPS)
间接法需要一种溶剂溶解残余污染物，随后通过下面方法进行分析：
重量法分析
紫外线分析
光电子计数器
其他实验／参考分析法如下[25]：
扫描电子显微镜