日期:2013-04-11 15:09
21化学镀液的监控
化学镀是一个自催化过程，由催化剂如钯引发，然后继续沉积自身金属。从电化学上讲，这个体系是亚稳定的，因为它必须马上使用。它比电镀溶液更需要严格地控制镀液。需要经常对化学镀液进行分析和维护，尤其是快速电镀时。快速的化学金属沉积可导致镀液自发分解，从而形成金属粒子，还可消除所有金属离子的溶解。化学镀铜需要监控的参数是温度、pH值、铜离子浓度、甲醛和氰离子浓度。精确的温度监控很容易办到，pH值是用标准玻璃电极测量的。为维持pH值，须加入氢氧化物溶液。铜浓度可以用比色法或极谱法监测。甲醛可通过