日期:2013-04-11 15:24
化学镀层正广泛用于功能性的产品上，其特点是能够进行大生产，并能在不规则基体上形成均匀的镀层[1-7]。为了充分利用镀层的功能性，必须控制镀层的显微结构，以便获得最佳的功能性。本章重点讨论用于磁记录元件的化学镀钴层的磁性，其他方面的性能，读者可参考Safranek[8]提供的资料。
用作横向记录磁介质的化学镀钻合金层
自从1957年[9]使用化学镀钴合金以来，磁盘驱动已成为数字数据记录元件的中心，它具有容量大、存取速度快、可靠性好、成本低等优点。最先认识的记录介质是Y-Fe203粒子分散在有机黏结剂中组成的材料，不久以后开发了