日期:2013-04-11 15:24
薄金属层记录介质，它达到甚至超过了前者的性能。
Fisher等人于1962年[10]首先提出了化学镀钴层在磁记录介质中的应用，并作了大量研究[11-20]。与此同时，电镀钴合金的研究也得到广泛开展[21～27]。由于化学沉积能够批量生产均匀膜层，20世纪70年代曾试图将化学镀层用作磁鼓介质和模拟记录盘。直到1981年[28]化学镀层才真正应用到硬磁盘系统中，该系统中使用了化学镀CoNiP介质和溅射r-Fe203介质。
在实际应用中，成功地使用了各种不同化学镀介质，并且通过精密工艺进行了批量生产。例如[29-37]，生产高可靠性化学镀钴合金介质的基本技术