化学镀钴合金薄膜:用作垂直记录磁介质的化学镀钴合金
日期:2013-04-11 16:03
场图,从RHEED图可以看出,它们由C轴垂直取向的hep结构组成,其垂直各向异性源自晶体结构产生的磁晶各向异性,并由界面清晰、直径为30nm的粒子组成,具有柱状结构产生的显微形状异向,从而提高了垂直各向异性[89]。


图19-2化学镀CoNiP垂直磁记录介质的典型RHEED图和TEM明视场图
为了详细研究垂直记录介质的显微结构,讨论了它们的成分分离条件,这是溅射CoCr膜层获得优异性能的主要显微结构之一,利用选择性刻蚀方法,铁磁成分被溶解,留下非磁成分。
图193表示化学镀CoNiP膜层刻蚀处理前后[93]的典型TEM明视场图。镀态膜层由直径为
4/7 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/13 08:17