化学镀钴合金薄膜:用作垂直记录磁介质的化学镀钴合金
日期:2013-04-11 16:03
30nm、界面清晰的粒子组成,经化学刻蚀后的膜层图像上有许多几纳米大小的斑点,图193(c)中显示每个粒子中的这些斑点像分散的不对称六角形,形成的星状图形由直径为10nm的磁心、桥臂长约20nm的图案组成。镀态和化学刻蚀后的磁性分析表明,斑点是富C0的痕迹,铁磁体成分被刻蚀处理溶解,不对称六角形的星状图形为非磁性成分[91]。另一方面,在较低Hc的膜层中观察不到刻蚀图案,可以认为,成分分离必须具有高Hc。


图19-3(a)镀态化学镀CoNiP膜层的典型TEM明视场图;(b)化学刻蚀后的TEM明视场图;(c)相分离的粒子显微结构示意模型
2自旋回
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