化学镀钴合金薄膜：用作垂直记录磁介质的化学镀钴合金
日期:2013-04-11 16:03
i40合金(其成分比平均组成富Co)基本一致。因此，可以断定膜层中存在富C0成分，并且H。较高的膜层组成更不均匀，这个结果与前面描述的化学刻蚀结果相吻合。

图194高Hc和低H。CoNiP膜层以及C035Ni65合金的典型NMR光谱

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