日期:2013-04-11 16:09
泛研究，特别是铁基合金，如Fe73P27具有1．4T[10]的高Bs，Fe84P15C0具有l．6T的高Bs和70cm的高p，还提出了使用C0基合金，如CoNiFe合金层[108,109]，它具有l．8T的高Bs。通过将膜层中S夹杂量控制在极小数量内，成功地获得了Bs为2．1T的最高Bs的CoNiFe合金层[110～112]。NEC公司从材料研究着手，成功地生产了l00106位／英寸2记录[51]的新一代MR磁头。
19．4小结
根据实验结果，描述了用于高功能性应用的化学镀钴的最新进展，膜层结构(如粒子尺寸、晶格取向和成分分离)的控制在高功能性膜层中很重要。
图196列出了生产垂直磁记录介质和软磁