日期:2013-04-12 15:06
MAB槽沉积速度的影响
镀槽：0．02mol／LKAu(CN)2、0．2mol／LKCN、0．1mol／LKCN，75℃。(Okinaka[1])
BH30H一是DMAB与OH-直接反应的产物：
硼氢化物体系的另一个特征是沉积速度受[Au(CN2)]-浓度的影响，在金浓度约0．03mol／L时其沉积速度最大。这是由于金表面上同一位置含金物质与BH30H-竞争吸附，含金物质在金上的吸附比还原剂BH30H一强，对BH30H-的氧化起催化毒害作用。吸附的含金物质实际上是AuCN，它是[Au(CN2)]-[15，l6]还原过程中形成的中间产物：
最近已经证实在Au(111)单晶上吸附了AuCN，利用低能量电子衍射(LEE