化学镀金:改进后的硼氢化物和DMAB槽
日期:2013-04-12 15:13
始产生沉积,Au(工)还原成Au。当镍基体完全被金覆盖后,DMAB成为单一还原剂通过自催化机理在金上继续沉积金,选择适当的槽液组成可以消除置换镀所产生的镍溶解。Iacovangl0研究了镍和金上肼及DMAB氧化的阳极极化曲线,从电位范围可以看出,肼是在镍上氧化而不是在金上(如图216所示),而DMAB在金上的氧化速度比镍上快近100倍(如图217所示)。该槽巧妙地利用镍和金对两种还原剂氧化的催化活性差异,当要求基体金属不与槽液发生置换反应时,该原理很实用。
表21-3含EDTA和乙醇胺的硼氢化物槽


来源:AliandChrigtie[27]。
表21-4双还原剂
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