化学镀金:改进后的硼氢化物和DMAB槽
日期:2013-04-12 15:13
化物直接还原成Au(I),因此,可以用KAu(CN)2配槽,由Au(OH)3溶于稀KOH配制的溶液进行补充。
Simon[25]描述了利用一种加速剂来消除DMAB槽中游离CN-积累造成的不利影响,但没有透露加速剂的化学成分。
(4)加入还原剂的阳极氧化加速剂。如果在镀槽中加入一种适当的催化剂来
加速还原剂的阳极氧化,那么该反应的电位将负移,从自催化金属沉积的一般原理来看,还原剂氧化电位的负移将会提高沉积速度。IacovangeloE26]发现碳酸根离子和三乙醇胺可以加速DMAB的氧化,但还不清楚加速影响的机理。
2提高槽液稳定性的方法
在所有自动催化体系中
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