化学镀金:无氰镀槽
日期:2013-04-12 15:33
些资料,最近发表了大量有关亚硫酸金(I)和/或硫代硫酸金(I)络合物的近中性化学镀的专利和文章,详细研究了反应机理、工艺控制、成分补充和镀层性能,这里仅介绍l980年以后开发和研究的无氰镀槽。
1亚硫酸金(I)络合物镀金
亚硫酸金(I)络合物作为电镀金槽的金源已应用多年,由于亚硫酸金(I)在水溶液中发生歧化反应,自发分解产生Au(Ⅲ)和金属Au(0),因此这类镀槽必须含有特殊稳定剂。
Richter和Geseman等人[47~50]开发了1,2-氨基乙烷和KBr作稳定剂,次磷酸盐、甲醛、肼、硼氢化物或DMAB作还原剂的化学镀金槽;Richter等人[51]还提出了
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