化学镀金:无氰镀槽
日期:2013-04-12 15:33
阳极氧化,发现在各种还原剂中,pH值在6.4~9.2、室温下的Au[(S203)2]3-还原电位范围内,抗坏血酸是唯一能够以适当速度被电催化氧化的化合物。因此,表21-6所列的化学镀金槽中含有该化合物。Snllivan等人观察到一个有趣现象,化学镀金在空气中的沉积速度高于N2中。这是由于抗坏血酸被空气氧化形成了H202副产物,它与过量的游离S2032-反应,导致硫代硫酸金(I)络合物被还原。槽液中游离S2032-的积累降低了金的沉积速度,[Au(S203)2]3一对空气氧化抗坏血酸起催化作用。Sullivan和Kohl[60]利用旋转圆环电极对上述反应进行了广泛研究,发现H2
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