日期:2013-04-23 15:01
是先在基体上镀一层不含硫的半光亮镍镀层，然后再在半光亮镍层上镀含硫的光亮镍层，最后镀铬。由于含硫的光亮镍电位较负，当贯穿铬层、光亮镍层的腐蚀孑L到达半光亮镍时，在光亮镍与半光亮镍之间，产生电位差，形成腐蚀原电池，含硫较高的亮镍成为阳极，底层的半亮镍成为阴极，光亮镍层成为牺牲镀层而被腐蚀，从而延迟了腐蚀介质向铁基体的腐蚀速度，显著提高了镀层的耐蚀性。获得双镍层的工艺规范，列于表34l9。
表3419双层镍工艺规范摘选
双层镍耐蚀性的高低，有以下两个因素：
(1)亮镍与半光亮镍之间的电位差。电位差一定要控制