日期:2013-06-04 14:48
本发明涉及一用于镀膜的镀膜机，特别是通过阴极溅射方法对大面积基片镀膜的镀膜机，该镀膜机带有一镀膜室，且其中设置一阴极组件(2),在该阴极组件(2)中，用于溅射的材料被设置在具有弯曲表面的靶(4)上，该用于溅射的材料特别位于圆柱的侧面上;至少3个、优选更多的带有可转动的、弯曲的靶(4)的阴极组件(2)被并排地设置在用于连贯的镀膜区域的单一的镀膜室中。
1.一种用于镀膜的镀膜机，特别是通过阴极溅射对大面积基片镀膜的镀膜机，其具有一镀膜室和设于镀膜室内的一阴极组件(2),在该阴极:组件(2)处待溅射的材料被定位在靶(4)上，该靶(4)